主要用途：

MEMS壓力傳感器加工工藝中光刻膠批量處理；

去除有機或無機物，而無殘留；

去膠渣、深刻蝕應用；

半導體晶圓制造中光刻膠及SU8工藝；

平板顯示生產中等離子體預處理；

太陽能電池生產中邊緣絕緣和制絨；

先進晶片(芯片)封裝中的襯底清潔和預處理；

工作原理介紹：

  為了產生等離子，系統(tǒng)使用遠程微波源。氧在真空環(huán)境下受高頻及微波能量作用，電離產生具有強氧化能力的游離態(tài)氧原子，它在高頻電壓作用下與光刻膠薄膜反應，反應后生成的 CO2 和 H2O 通過真空系統(tǒng)被抽走。CF4 氣體可以達到更快速的去膠速率，尤其對于難以去除的光刻膠也具備出色的去除能力。

  在微波等離子體氛圍中，活性氣體被等離子化，將跟光刻膠產生化學反應，反應生產的化合物通過真空泵被快速抽走，可以達到高效的去膠效果。該去膠機微波源為遠程微波源，轟擊性的離子將被過濾掉之后微波等離子進入到工藝腔室參與反應，因此可以實現(xiàn)無損的去膠。

NANO-MASTER微波等離子去膠機的優(yōu)勢：

1）Downstream結構，等離子分布均勻；

2）遠程微波，無損傷；

3）遠程微波，支持金屬材質；

4）批處理，一次可支持1-25片；

5）微波等離子，可以深入1um以內的孔隙進行清洗；

6）光刻膠去除的方式為化學方式，而非物理轟擊，可實現(xiàn)等離子360度分布；

7）旋轉樣品臺，進一步提高去膠的均勻性。

8) 腔體內無電極，更高潔凈度；

9）微波波段無紫外排放，操作更安全；

10）高電子密度，去膠效率高。