微波等離子去膠清洗機(jī)是石英腔的微波等離子系統(tǒng)，可以安裝到超凈間墻上。該系列的微波等離子系統(tǒng)可以用于批處理，也可以作為單片處理，系統(tǒng)為計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的系統(tǒng)。典型工藝包含：大劑量離子注入后的光刻膠去除；干法刻蝕工藝的前處理或后處理；MEMS制造中的犧牲層去除。
下面為大家介紹微波等離子去膠清洗機(jī)使用中的四大影響因素，希望對(duì)大家有所幫助。
一、調(diào)整合適的頻率：
頻率越高，氧越容易電離形成等離子體。如果頻率過(guò)高，使電子振幅短于其平均自由程，電子與氣體分子碰撞的概率就會(huì)降低，導(dǎo)致電離率降低。通常，公共頻率為13.56MHz和2.45GHz。
第二，調(diào)整適當(dāng)?shù)臋?quán)力：
關(guān)于一定量的氣體，功率大，等離子體中活性粒子的密度也高，脫膠速度也快；但當(dāng)功率增加到一定值時(shí)，響應(yīng)消耗的活性離子達(dá)到飽和，脫膠速度隨功率的增加不明顯增加。由于功率大，襯底溫度高，需要根據(jù)技術(shù)要求調(diào)整功率。
第三，調(diào)整合適的真空度：
適當(dāng)?shù)恼婵斩瓤梢允闺娮舆\(yùn)動(dòng)的平均自由程更大，因此從電場(chǎng)中獲得的能量更大，有利于電離。此外，當(dāng)氧氣流量必須準(zhǔn)時(shí)時(shí)，真空度越高，氧氣的相對(duì)份額越大，活性顆粒濃度越大。但如果真空度過(guò)高，活性粒子的濃度反而會(huì)降低。
四、氧氣流量的調(diào)整：
氧氣流量大，活性顆粒密度大，脫膠速率加快；但如果通量過(guò)大，離子的復(fù)合幾率增加，電子運(yùn)動(dòng)的平均自由程縮短，電離強(qiáng)度反而降低。如果回轉(zhuǎn)室的壓力不變，流量增加，則還增加了被抽出的氣體量，也增加了不參與回轉(zhuǎn)的活性顆粒量，因此流量對(duì)脫膠率的影響不是很顯著。
等離子去膠機(jī)是半導(dǎo)體行業(yè)工業(yè)化生產(chǎn)不可少的設(shè)備；
高密度2.45GHz微波等離子體技術(shù)用于半導(dǎo)體制造中晶圓的清洗、脫膠和等離子體預(yù)處理。等離子體清洗脫膠活性高，對(duì)器件無(wú)離子損傷。微波等離子體脫膠機(jī)是微波等離子體處理技術(shù)的新產(chǎn)品。該晶圓灰化設(shè)備成本低、尺寸適中、性能先進(jìn)，特別適用于工業(yè)生產(chǎn)和科研機(jī)構(gòu)。
產(chǎn)品分類(lèi)
更新時(shí)間：2022-05-20 
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