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進(jìn)口晶圓清洗機(jī)日常使用中的保養(yǎng)工作

更新時間:2018-10-29      瀏覽次數(shù):2683
   在所有的清洗方式中,進(jìn)口晶圓清洗機(jī)是效率zui高、效果的一種,之所以超聲波清洗能夠達(dá)到如此的效果,是與它*的工作原理和清洗方法密切相關(guān)的。我們知道,在生產(chǎn)和生活當(dāng)中,需要清潔的東西很多,進(jìn)口晶圓清洗機(jī)需要清洗的種類和環(huán)節(jié)也很多,如:物件的清除污染物,疏通細(xì)小孔洞,常見的手工清洗方法對異型物件以及物件隱蔽處無疑無法達(dá)到要求,即使是蒸汽清洗和高壓水射流清洗也無法滿足對清潔度較高的需求,超聲波清洗對物件還能達(dá)到殺滅細(xì)菌、溶解有機(jī)污染物、防止過腐蝕等,因此,進(jìn)口晶圓清洗機(jī)被日益廣泛應(yīng)用于各行各業(yè):
 
  1、機(jī)械行業(yè):防銹油脂的去除;量具的清洗;機(jī)械零部件的除油除銹;發(fā)動機(jī)、化油器及汽車零件的清洗;過濾器、濾網(wǎng)的疏通清洗等。
 
  2、表面處理行業(yè):電鍍前的除油除銹;離子鍍前清洗;磷化處理;清除積炭;清除氧化皮;清除拋光膏;金屬工件表面活化處理等。
 
  3、儀器儀表行業(yè):精密零件的高清潔度裝配前的清洗等。
 
  4、電子行業(yè):印刷線路板除松香、焊斑;高壓觸點(diǎn)等機(jī)械電子零件的清洗等。
 
  5、醫(yī)療行業(yè):醫(yī)療器械的清洗、消毒、殺菌、實(shí)驗器皿的清洗等。
 
  6、半導(dǎo)體行業(yè):半導(dǎo)體晶片的高清潔度清洗。
 
  7、鐘表首、飾行業(yè):清除油泥、灰塵、氧化層、拋光膏等。
 
  8、化學(xué)、生物行業(yè):實(shí)驗器皿的清洗、除垢。
 
  9、光學(xué)行業(yè):光學(xué)器件的除油、除汗、清灰等。
 
  10、紡織印染行業(yè):清洗紡織錠子、噴絲板等。
 
  11、石油化工行業(yè):金屬濾網(wǎng)的清洗疏通、化工容器、交換器的清洗等。
 
  如何保養(yǎng)晶圓清洗機(jī)?保養(yǎng)晶圓清洗機(jī)的方法有哪些?保養(yǎng)晶圓清洗機(jī)注意事項有哪些?下面就由小編為大家總結(jié)了一些使用經(jīng)驗,希望能對大家在養(yǎng)護(hù)時得到幫助。
 
  進(jìn)口晶圓清洗機(jī)日常維護(hù):
 
  1、沖洗接入清潔劑的軟管和過濾器,去除任何洗滌劑的殘留物以助于防止腐蝕;
 
  2、關(guān)斷連接到清洗機(jī)上的供水系統(tǒng);
 
  3、扣動伺服噴槍桿上的扳機(jī)可以將軟管里全部壓力釋放掉;
 
  4、從清洗機(jī)上卸下橡膠軟管和高壓軟管;
 
  5、切斷火花塞的連接導(dǎo)線以確保發(fā)動機(jī)不會啟動(適用于發(fā)動機(jī)型)。
 
  電動型:
 
  將電源開關(guān)轉(zhuǎn)到‘開’和‘關(guān)’的位置四到五次每次1-3秒以清除泵里的水。這一步驟將有助于保護(hù)泵免受損壞。
 
  發(fā)動機(jī)型:
 
  緩慢地拉動發(fā)動機(jī)的啟動繩5次來清除泵里的水。這一步驟將有助于保護(hù)泵免受損壞。
 
  定期維護(hù)---每2個月維護(hù)一次
 
  1、定期從貯油箱里清除燃料沉淀物將延長發(fā)動機(jī)的使用壽命和性能。燃料的沉淀物會導(dǎo)致對燃料管道,燃料過濾器和化油器的損壞;
 
  2、當(dāng)不使用高壓清洗機(jī)時用凱馳泵的防護(hù)套件來保護(hù)你的高壓清洗機(jī)。泵的防護(hù)套間是特別用來保護(hù)高壓清洗機(jī)防止受腐蝕,過早磨損和凍結(jié)等。并且要給閥和密封圈涂上潤滑劑,防止它們卡住。
 
  進(jìn)口晶圓清洗機(jī)電動型:
 
  1、關(guān)閉晶圓清洗機(jī);
 
  2、將高壓軟管和伺服噴槍桿與泵斷開連接;
 
  3、將閥接在泵防護(hù)罐上并打開閥;
 
  4、啟動打開清洗機(jī),將罐中所有物質(zhì)吸入泵里;
 
  5、關(guān)閉清洗機(jī),現(xiàn)在高壓清洗機(jī)可以直接貯存。
 
  發(fā)動機(jī)型:
 
  1、關(guān)閉晶圓清洗機(jī);
 
  2、將高壓軟管和伺服噴槍桿與泵斷開連接;
 
  3、將閥接在泵防護(hù)罐上并打開閥;
 
  4、點(diǎn)火,拉動啟動繩,將罐中所有物質(zhì)吸入泵里;
 
  5、現(xiàn)在晶圓清洗機(jī)可以直接貯存。
 
  晶圓清洗機(jī)應(yīng)用范圍
 
  1、爐前清洗:擴(kuò)散前清洗。
 
  2、光刻后清洗:除去光刻膠。
 
  3、氧化前自動清洗:氧化前去掉硅片表面所有的沾污物。
 
  4、拋光后自動清洗:除去切、磨、拋的沾污。
 
  5、外延前清洗:除去埋層擴(kuò)散后的SiO2及表面污物。
 
  6、合金前、表面鈍化前清洗:除去鋁布線后,表面雜質(zhì)及光膠殘渣。
 
  7、離子注入后的清洗:除去光刻膠,SiO2層。
 
  8、擴(kuò)散預(yù)淀積后清洗:除去預(yù)淀積時的BSG和PSG。
 
  9、CVD后清洗:除去CVD過程中的顆粒。
 
  10、附件及工具的清洗:除去表面所有的沾污物
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